1993年9月，0.5微米工艺制程的国产光刻机研发成功，并且，已经一开始小规模的推广。当然了，一开始仅有新创业半导体公司和骊山半导体公司，两家公司各自购买了一台。这倒不是因为0.5微米光刻机昂贵的问题，更关键的是，0.5微米的光刻机的产能还是比较慢的。宣布研发成功时，一共三台，一台是内部继续改进使用，一台卖给了骊山半导体，一台卖给了新创业半导体。

之后，预计两个月能生产一台0.5微米的光刻机，一年能生产6台。想要提升生产速度，则是需要时间，相关产业渐渐跟上了发展，能更高效率的供应零部件。

四年前，也是林蒙科技公司，在1微米光刻机项目上，填补了国内的空白。

在一开始，国产的1微米光刻机，也并不比进口的光刻机便宜，每台售价1亿人民币，大致上价值1500万美元一台。加上其他的配套设备，1微米工艺级的芯片工厂，投入高达2亿人民币以上。跟欧美和日本的同行相比，设备一开始并没有优势。甚至，由于欧美和日本一微米工艺普及的比较早，生产线比国内自主研发的1微米生产线更便宜。

当然了，海外进口的先进设备，更便宜是建立在国内能够自己研发和生产1微米工艺生产线的基础上。

如果，国内不具备1微米工艺生产能力的话，别说是更便宜的价格进口设备，别人肯不肯卖都是两码事。

但在几年前，欧美和日本的光刻机厂商，想要把1微米光刻机卖给中国，是需要搞定一堆的政治上的壁垒，毕竟，国际上是有各种的技术壁垒，禁止高端先进的技术和设备，向中国销售。这些高端技术和设备的禁售，其实对于中国有志于从事相关行业的公司而言，是天大的喜讯。比如，林蒙科技公司建立在中国，最大的好处就是，欧美和日本等等公司，限于国际上一堆的对中国技术封锁的禁令，很难最快速度将最先进的产品卖到中国市场。

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