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第593章【新的技术痛点——光刻胶】

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蔚蓝海岸实验室,紫星光刻机无尘工作室。

今天一早,罗晟接到消息便来到了这里,此时在这间两万多平米的无尘室,几十名工程师和罗晟都穿着工作无尘服在里面,他的手里正拿着一块晶圆流片反复观察欣赏,这尺寸间的艺术正是紫星光刻机的杰作。

站在他身边的一位工程师兴奋使然的道:“光源的转换效率达到了一致,也实现了正确的控制,团队攻克了250瓦光源,客户可以达到每小时155片晶圆吞吐量,而在实验室里,则是可以实现超过300瓦的光源功率,完成最后的测试紫星设备就可以正式出货了。”

全球几家顶尖的芯片制造商一直以来都坚持250瓦的光源功率是达成每小时155片晶圆生产量吞吐的必要条件,而ASML与光源技术供货商Cymer到现在为止还未能实现这一光源功率目标,这家公司两年前被ASML收购,但进展有限,这也是ASML在进来发展不顺的原因,虽说他们已经提前一步搞出了极紫外光刻机了。

罗晟把手里的流片交给旁边的工程师,笑道:“干得不错,我们现在可以有底气说出半导体制造设备最重要的光刻机,我们领先世界了,国内的半导体厂商拿着大把的钞票去求着ASML购买还得看对方心情这种局面,该结束了。”

在场的人听到这话也是倍感振奋,在罗晟的话音刚落后,都止不住内心的激动心情而鼓掌,为国产半导体事业里程碑式的突破而鼓掌,也为自己的事业为自己鼓掌。

两千多个日日夜夜的奋战,不为别的,就为了争一口气。

几万名工程师、研究员、几百家厂商配合,集中火力朝着一个点不断的发起火力冲击,而罗晟在这两千多个地球日照循环里,仅仅在极紫外光刻机设备的研发上就投入超过了1000亿美元,是ASML公司在极紫外光刻机研发投入的五倍之多。

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