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第53章 铍,三组不同的比例

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苏哲看着惊呼的众人,脸上露出了笑容。

此时此刻,牛光辉和司文博两人也是异常的兴奋。

两人看着大屏幕上两组加工镜片的检测数据,知道这次是稳了。

“不错不错!这样的结果才是我愿意看到的,这下大家也不用猜了,都能安心了。”牛光辉笑着说。

“的确!两组能有这样的检测数据,说明了DYN-离子束抛光技术的稳定性。”司文博肯定的说,“老牛!要是你们搞的等离子体EUV光源突破了就好了,那我们造出来的EUV光刻机就有竞争力了。”

“我也想啊!我们研究团队……”牛光辉还没说完,站在台上的包正义拿着话筒又喊了起来。

“各位注意了,这两组的检测的结果还有提升空间,DYN-离子束抛光技术在理论上,镜面精度能够达到0.06纳米的面型精度峰谷值和10皮米的表面粗糙度。”

“有了DYN-离子束抛光技术,我们就能进军高端光学镜头市场了,最典型的就是EUV光学镜头,最为……”

苏哲听了一会儿,发现和范晓明说的一样,开始展望未来了。

牛光辉和司文博两人笑了笑。

“老牛!我们继续。”司文博笑着说。

“好!”牛光辉继续说等离子体EUV光源的问题。

苏哲一边听着,一边在脑中快速的计算着。

牛光辉相关的参数说的很详细,也点出了问题的所在,及锡滴在大功率波长10.6微米红外光的照射下会出现不稳,导致的结果是无法获得波长13.5纳米的紫外光。

听完这些,苏哲没在听牛光辉和司文博两人的讨论了,自顾自的在大脑中计算起来。

说来也巧,这等离子体EUV光源产生的原理和他研究的ZGZ-原子振动模型有点关系。

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